三星请求等离子体处理设备专利能有用履行基板处理工艺

来源:等离子熔炼电源    发布时间:2024-02-22 09:02:41
金融界2023年12月12日音讯,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社请求一项名为“等离子体处


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  金融界2023年12月12日音讯,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社请求一项名为“等离子体处理设备“,公开号CN117219485A,请求日期为2023年6月。

  专利摘要显现,一种等离子体处理设备包含:工艺室,在其间履行基板处理工艺;静电卡盘,其具有微腔;下电极,其被设置为与静电卡盘的下外表触摸;高频电源,其将高频电力施加到下电极;导电支撑件,其被设置为与下电极的下部间离隔而且接地;以及放电抑制器,其坐落下电极和导电支撑件之间,具有构成气体供给线的一部分的气体供给活动途径,而且经过三维打印来成型,其间,气体供给活动途径具有在高频电力所构成的电场的方向上具有5mm或更小的长度而且衔接放电抑制器的上外表和下外表的空间部分。

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